SSL050-EVM-I20A 评估模块EVM是基于MEMS结构光模组的双目三维扫描设计的评估方案。该EVM旨在缩短结构光模组三维应用的开发周期，快速评估 MEMS 结构光模组的各参数性能。该评估开发模块是一套完整的双目三维恢复方案，主要由两个USB3.0 接口 的双目相机、相机控制板、微型结构光蓝光模组、模组控制板（串口接口）、 结构支架、电源接口、三维恢复基本算法。为使用MEMS结构光模组用户提供方便快捷的开发套件。投影模组投射特定编码的条纹图案到目标物体表面，相机同步捕捉物体表面被调制后的光图案图像，通过算法对采集到的图像进行处理和分析，从而精确计算出物体表面各点的三维坐标信息，最终恢复出物体的三维模型。可广泛应用于产品检测、文物修复、模型建立、逆向建模等领域。
EVM 评估模块参数
EVM 方案双目二维相机参数
配备的二维双目相机外观图如下所示，主要参数如下表：
上位机软件
软件可实时显示当前二维图像、当前图像分辨率显示，同时开放曝光参 数、增益、gamma 矫正的参数窗口，方便不同应用场景下的参数调整以达到最佳 拍摄效果。
三维点云生成后可以进行点云保存。
具有二维结构光投射图保存功能，方便调试过程中的客户二次开发自由算法。
配套资料
基于 MEMS 结构光模组的双目三维标定指导手册。
基于该 MEMS 结构光评估板的二维相机开发包、三维基本测试软件、 结构光投影控制 demo 软件。
应用行业
实物举例
视野范围
外观尺寸/接口说明
使用注意事项：
1、 该评估模组配备445nm波长MEMS激光结构光投射模组，出瞳功率大于500mW，注意不要直接照射人眼，使用时需佩戴防护该波段激光的眼镜。
2、 使用时请保障设备工作在允许温区范围内。
3、 通讯意外断开，可检查连接线和电源线是否松动，软件是否运行正常，或重启。
